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Cassification
MiniLab 125物理气相沉积系统优化为多技术应用，采用模块化磁控管溅射和热蒸发PVD系统，适用于直径最大11英寸的基板。
SD-650MHT物理气相沉积系统采用*的机械设计和精密控制系统，具备出色的真空水平和稳定的气体控制能力。其核心部件包括旋转真空泵和涡轮分子泵的组合，能够快速实现5×10^-5Pa的真空，确保涂层过程中的高效率和稳定性。
ATC Flagship Series物理气相沉积系统可根据多种配置建造以满足大多数需求。这些系统围绕AJA独特的A300-XP（UHV）或Stiletto系列（HV）磁控管溅射源构建，这些源具原位磁控管头的倾斜，实现了精确且可重复的共焦、直射和离轴薄膜沉积。
Lab10 MBE分子束外延系统是一款用于超高真空条件下探勘材料研究的小型样品沉积工具。它是一个灵活的系统平台，适用于多种MBE应用，如二维材料生长、金属间化合物、氧化物异质结构或有机层。Lab10 MBE配备了*的蒸发控制软件，并提供多个原位特性分析端口。
PRO 75/100 MBE分子束外延系统是用于超高真空条件下材料研究的沉积工具，基底直径可达4英寸。它们是灵活的系统平台，适用于多种MBE应用，如二维材料生长、金属间化合物、氧化物异质结构或半导体。PRO 75/100 MBE配备了更优良的蒸发控制软件，并提供多个原位特性分析端口。
EVO 25/50 MBE分子束外延系统是用于超高真空条件下探勘材料研究的沉积工具，适用于直径不超过2英寸的基底。它们是灵活的系统平台，适用于多种MBE应用，如二维材料生长、金属间化合物、氧化物异质结构或半导体。EVO-25/50 MBE配备了先进的蒸发控制软件，并提供多个原位特性分析端口。
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