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Cassification
Beneq Transform® 300 ALD原子层沉积系统是一款高度多功能的制造平台，面向专注于 CIS、电源、微型 OLED/LED、优良封装及其他 MtM 应用的集成设备（IDM）和代工厂。它是一种高度可配置的解决方案，适用于多种优良薄膜应用，从栅极介质到钝化和/或封装等。
Beneq TFS 500 ALD原子层沉积系统是一款经过验证且适应性强的ALD反应堆，适合高级研究和可靠的批次处理。作为Beneq反应堆系列的原始型号，它在多项目环境中展现了多功能性，使其成为多种薄膜涂层应用的坚固工具。
Beneq Prodigy™ ALD原子层沉积系统是VCSEL、LED和MEMS制造商及代工厂的理想制造解决方案，旨在通过一款经济实惠的独立ALD批处理工具提升器件性能和可靠性。Beneq Prodigy 提供多种晶圆类型和尺寸的顶级钝化和/或封装薄膜。
Beneq Transform ALD原子层沉积系统是一款ALD集群工具，专为电力电子（SiC、GaN、Si）、射频、光电子、微型LED、MEMS和传感器领域的技术开发和制造而设计。Beneq Transform专为批量生产打造，能够根据吞吐量和应用需求进行扩展。它是需要表面工程应用的理想平台，如宽带间隙材料的表面钝化。
Atomfab ALD原子层沉积系统为GaN功率器件和射频器件提供快速、低损伤、低运营维护成本的等离子体原子层沉积（ALD）加工。
PlasmaPro ASP ALD原子层沉积系统基于经过生产验证的企业/专业研发平台，旨在形成可集成到器件中的优质薄膜。它足够灵活，可以进行多种化学反应，并可实现高速、高质量的薄膜沉积。其中，我们优良的等离子体增强型原子层沉积（ALD）系统提供了原子层沉积的灵活性、一致性和可调性，以快速实现更高产量和更厚的薄膜。
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