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Cassification
MLA 150 无掩模光刻系统采用快速、灵活、易于使用的解决方案取代了传统技术，具有最高的性能。通过使用数字镜像设备（DMD）作为动态掩模，MLA 150 克服了物理光掩模的缺点。从数字设计美图案化的基底只需几分钟，使您的用户能够加速量子器件、微机电系统、微光学和生命科学等领域的研究。
µMLA 无掩模光刻系统是一款基于稳健的 µPG 平台打造的先进桌面式无掩模光刻系统，它非常适合作为研发和快速原型制作的入门级工具，能够在多种应用中实现高精度微结构加工，包括微流控（如细胞分选器件、芯片实验室）、小规模掩模制作、微光学与微透镜阵列、传感器制造、MEMS，以及二维材料和扇出电极的图案化。
MA300 Gen3 掩模光刻机是 SUSS 用于 200 mm 和 300 mm 晶圆的旗舰掩模对准机。它专为先进封装而设计，将亚微米对准与灵活的顶部、底部和红外对准选项相结合。从 TSV 到 RDL 和凸点工艺，它都能提供高精度和吞吐量，处理超出步进能力的厚光刻胶应用。
MA200 Gen3 掩模光刻机专用于200 毫米以下晶圆和方形基板的大批量自动化生产。它将创新对准技术与智能自动化相结合，是微机电系统 (MEMS)、射频 (RF) 和功率器件的优先系统。
MA12 Gen3 掩模光刻机是一款半自动化掩模对准机，适用于最大 300 毫米的晶圆，将成熟的光刻技术与先进的压印处理技术相结合。它为 MEMS、先进封装和研发提供了经济高效的曝光、高对准精度和工艺灵活性。
MA/BA Gen4 系列有掩模光刻机代表了标准或先进应用的半自动化掩模对准机和压印处理的两个平台。该系统将久经考验的 SUSS' 光刻技术与全新的自动化和人机工程学特性相结合，确保性能稳定、安全性更高、操作方便，适用于研究、试生产和要求苛刻的工艺环境。
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