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Cassification
FlexAL ALD原子层沉积系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。
Fiji ALD原子层沉积系统是一种模块化、高真空热原子层沉积系统，采用灵活的架构和多种前驱体和等离子体气体配置，可适应各种沉积模式。Fiji 是下一代 ALD 系统，能够执行热成像和等离子体增强沉积。
Savannah ALD原子层沉积系统已成为全球从事ALD研究、寻求经济实惠且稳健平台的大学研究人员优先的系统。过去十年中，我们已交付数百套此类系统。Savannah®高效利用前体和节能功能，大幅降低了薄膜沉积系统的运行成本。
Phoenix ALD原子层沉积系统设计旨在实现高通量和最大运行时间，适用于从试点生产到工业级制造的任何制造环境。Phoenix®支持多达六条独立前驱体线，根据您的薄膜需求提供固体、液体或气态工艺化学。紧凑的布局和创新的设计使凤凰®成为批量生产ALD需求的实用选择。
ALD-150LE™原子层沉积系统是我们实惠但极其灵活性的原子层沉积（ALD）系统，专为入门到中级用户设计。该ALD150LE™配置为纯热ALD设计，其独特的工艺腔体设计促进了均匀的前驱体扩散和传递。优秀的供暖和温控进一步提升了系统性能。总体而言，ALD150LE™在紧凑设计中提供了优秀的灵活性和性能，同时不牺牲可用性。
ALD-150LX™原子层沉积系统是一套专为优良研发（R&D）应用设计的原子层沉积（ALD）系统。创新的ALD150LX设计特性，如我们的前体聚焦技术™，以及超高纯度（UHP）工艺能力等进步，为其提供了优秀的灵活性和性能。该ALD150LX强调在研发层面支持和支持创新、前沿技术，不仅作为独立平台，还通过集群工具配置与额外的工艺和分析模块实现连接。
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