Beneq TFS 500 ALD原子层沉积系统是一款经过验证且适应性强的ALD反应堆，适合高级研究和可靠的批次处理。作为Beneq反应堆系列的原始型号，它在多项目环境中展现了多功能性，使其成为多种薄膜涂层应用的坚固工具。

Name: Beneq TFS 500 ALD原子层沉积系统
Brand: Beneq
Availability: InStock

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Beneq TFS 500 ALD原子层沉积系统是一款经过验证且适应性强的ALD反应堆，适合高级研究和可靠的批次处理。作为Beneq反应堆系列的原始型号，它在多项目环境中展现了多功能性，使其成为多种薄膜涂层应用的坚固工具。

Beneq TFS 500 ALD原子层沉积系统能够处理多种基底——包括晶圆、平面物体和三维结构，并可定制手动作的载荷锁、盒式装载器或手套箱等选项，实现在惰性环境中的样品处理。其灵活设计支持可更换的反应室，允许用户根据不同应用需求优化系统。

扩展能力以应对高要求的研究与生产

基于TFS系列的多功能性，TFS 500设计可支持更大底物和批量，非常适合扩大研究项目规模和过渡到ALD试点生产。它始终以真正的原子层沉积模式提供高质量薄膜，满足复杂研发项目的需求。

优良等离子增强ALD（PEALD）

Beneq TFS 500的标准配置是直接和远程PEALD由电容耦合等离子体（CCP）电源供电，这是ALD的行业标准。这使得从研发到生产的流程无缝转移成为可能。TFS 500支持PEALD处理直径最高300毫米的基底，确保对各种项目需求具有灵活性。

凭借其可扩展性、精准性和灵活性，Beneq TFS 500是优良ALD研发的重要工具。

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