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Cassification
MiniLab 090 PVD物理气相沉积系统兼容手套箱，适用于直径达11英寸的亚态的环境敏感应用。高腔室非常适合高效蒸发，但磁控管溅射也可用。
MiniLab 080 PVD物理气相沉积系统提供高密度腔体，非常适合热、LTE和电子束蒸发技术，需要更长的工作距离以实现最佳均匀性。
MiniLab 070 PVD物理气相沉积系统采用前置箱式腔室，针对直径最大11英寸的亚态进行磁控管溅射优化。
MiniLab 026 PVD物理气相沉积系统是紧凑型落地式真空蒸发器，配备易于取用的“蛤壳”腔室。适用于金属、介质和有机物的蒸发或溅射沉积技术。
nano PVD-S10A物理气相沉积系统是一款台式系统，优化用于金属和绝缘材料的射频和直流磁控管溅射。体积紧凑如电子显微镜涂层机，但配备先进硬件以实现研究级效果。
nano PVD-T15A物理气相沉积系统是一种台式蒸发系统，优化用于沉积各种高熔点金属和挥发性有机物。体积紧凑如电子显微镜涂层机，但配备优良硬件以实现研究级效果。
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