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GVC-2000T 高真空磁控离子溅射仪是一款桌面型的小型化的 PVD 仪器，主要用于少量、小型样品的表面镀膜工艺过程。仪器具备直流磁控溅射电源，可以满足所有金属导电膜层的制备需求，尤其对于纳米及亚微米膜层的制备，具有非常明显的优势。
GVC-2000 全自动磁控离子溅射仪是一款紧凑型桌面式低真空台式镀膜仪，占地空间小，操作简单、可靠性稳定性好。
GVC-1000 全自动磁控离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作，同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。
iTops i233 PVD ITO溅射物理气相沉积系统要用于2/4/6/8/12英寸ITO沉积工艺。系统由传输模块、工艺模块、附属设备以及电源柜组成。该设备具有占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便，运营成本低等优势。
Polaris系列通用物理气相沉积系统主要由真空传输平台，去气腔室，预清洁腔室和工艺腔室组成，设备采用Cluster Tool架构，可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室，适合封装领域薄膜制备大规模生产。
eVictor系列8英寸通用物理气相沉积系统主要由真空传输平台，去气腔室（Degas），预清洁腔室和工艺腔室组成，设备采用Cluster Tool架构，可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室，其中工艺腔室可根据客户选择进行配置。
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