Beneq Transform ALD原子层沉积系统是一款ALD集群工具，专为电力电子（SiC、GaN、Si）、射频、光电子、微型LED、MEMS和传感器领域的技术开发和制造而设计。Beneq Transform专为批量生产打造，能够根据吞吐量和应用需求进行扩展。它是需要表面工程应用的理想平台，如宽带间隙材料的表面钝化。

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更新时间：2026-03-05
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Beneq Transform ALD原子层沉积系统是一款ALD集群工具，专为电力电子（SiC、GaN、Si）、射频、光电子、微型LED、MEMS和传感器领域的技术开发和制造而设计。Beneq Transform ALD原子层沉积系统专为批量生产打造，能够根据吞吐量和应用需求进行扩展。它是需要表面工程应用的理想平台，如宽带间隙材料的表面钝化。

多功能平台

热增强和等离子增强ALD（PEALD）集成于一工具中

• 在不破坏真空的情况下结合热批处理和单片晶圆PEALD

• 同一集群最多可支持三个工艺模块及预热

• 适用于多种氧化物、氮化物和纳米层压材料的灵活源配置

• 从研发到生产，硬件架构相同

设计上就适合工厂准备

专为吞吐量、正常运行时间和无缝晶圆厂集成而打造

• 25片晶圆微批量处理的周期时间降至个位数秒

• 预热模块缩短循环时间并提升生产效率

• 可靠的晶圆自动化，集成冷却

• 获得SEMI S2/S8认证，并符合NFPA 79、机械指令和UL标准

• GaN HEMT 的表面钝化

• SiC MOSFET、GaN MISFET和垂直GaN器件的栅极氧化层

• MEMS器件（包括射频滤波器）的表面钝化和蚀刻硬掩膜

• 射频和功率设备的最终钝化

• MicroLED和光子器件的表面钝化

• TSV的隔离、屏障和种子层

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