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半导体设备
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LZD系列离子注入系统配置一套高能气体离子源和一套高能金属离子源,可实现不同气体离子和不同金属离子的单元素、多元素或混合元素注入。配置移动式加热和水冷样品平台,可对注入样品进行加热或冷却处理。适用于实验研究和小量样品试验。
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