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Cassification
IMX-3500离子注入设备最大能量为200kV,可处理Φ200mm的晶圆,非常适合大学等机构的研发工作。
SOPHI离子注入设备是一款中电流离子注入设备,在功率器件和IGBT领域中保持优异表现。
LZD系列离子注入系统配置一套高能气体离子源和一套高能金属离子源,可实现不同气体离子和不同金属离子的单元素、多元素或混合元素注入。配置移动式加热和水冷样品平台,可对注入样品进行加热或冷却处理。适用于实验研究和小量样品试验。