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Cassification
PECVD等离子体增强化学气相沉积系统面向半导体、光电器件及功能薄膜制备需求开发，采用等离子体增强化学气相沉积技术，可在较低温度条件下实现高质量薄膜沉积。
Cygnus Optima Prime 介质薄膜化学沉积系统是一款针对以硅烷为反应物制备氧化硅/氮化硅/氮氧化硅/碳氧化硅薄膜的化学气相沉积设备，适用于集成电路、功率半导体等领域，可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处理。
HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。
EPEE系列等离子化学气相沉积系统可应用于8英寸及以下集成电路、化合物半导体、新兴应用与科研领域，具备多样化的传输系统，可满足量产及研发客户需求，并具备硅、碳化硅、玻璃、蓝宝石、砷化镓、铌酸锂、钽酸锂等不同衬底传输及工艺能力.
AIX G5 WW C CVD化合物化学气相沉积系统是面向6 英寸 SiC 功率器件量产的行星式 MOCVD 设备，主打高产能、高均匀性与低成本，是车规级碳化硅外延的主流量产机型。
AIX 2800G4-TM CVD化合物化学气相沉积系统是面向GaAs/InP 光电器件与射频器件的量产型行星式 MOCVD 设备，主打高均匀性、高产能与低单片成本，是光通信、VCSEL、5G/6G 射频外延的主流量产平台。
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