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Cassification
SI PEALD等离子体增强原子层沉积系统能够在低温下均匀且贴合地涂层敏感基底和层。样品表面提供高通量的反应性气体，无需紫外线或离子轰击。
Beneq C2R ALD空间原子层沉积系统将等离子体增强原子层沉积 （PEALD） 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺，Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择，甚至可达几微米。
Genesis ALD原子层沉积系统适用于电池、太阳能和柔性电子设备的功能性ALD涂层。Genesis ALD非常适合涂覆任何卷状基材，并适用于多种功能应用。
Beneq P1500 ALD原子层沉积系统是我们最大的ALD系统，专门用于涂层大片板材和复杂零件。它还设计用于提高批量较小部件的吞吐量。我们的客户使用P1500用于大直径基板的光学涂层、半导体设备部件的防腐蚀涂层，以及ALD在玻璃或金属板上的各种应用。
Beneq P800 ALD原子层沉积系统专门设计用于涂覆复杂形状的大件或大批量的小件。我们的客户使用P800用于光学涂层、半导体设备部件的防腐蚀涂层，以及用于玻璃或金属片的各种ALD应用。
Beneq P400A ALD原子层沉积系统专为不同类型的基材进行优化批次尺寸的涂层而设计——体积足够大以提供显著容量，同时又足够小以保持批次间优异的均匀性和短周期。我们的客户使用P400A用于光学涂层以及ALD在玻璃或金属板上的应用。
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