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Cassification
织雀™系列 PL-3D Premium高精密微3D光刻机， 最高光学分辨率可达1μm，支持最大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸，设备还支持对准套刻功能，可在已有结构表面进行多材料的驳接打印，在复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构制造方面具有突出的潜能和优势，而且还具有制造周期短、打印成本低、成型精度高、可使用材料种类多、无需模具直接成型的优点。
UV Litho-Y 无掩模光刻机是一款桌面型无掩模版紫外光刻机，该机器具备了无掩模光刻机的诸多优点，桌面型的设计使其便于教学使用。不仅如此，该设备还针对教育场景进行了优化，简化操作流程，让学生更容易上手。通过该设备，学生可更直观地了解光刻技术，掌握先进的光刻加工工艺，提升实践能力，为未来的科研工作打下基础。Y在教育领域的应用，有助于培养更多优秀的科技人才。
BIO 系列无掩模光刻机是生命科学版的无掩模紫外光刻机，该设备具有更高的深宽比，能满足生命科学领域的特殊需求。它主要用于制备像微流控芯片之类的具有特定需求的样品 。在微流控芯片的制造过程中，其高深宽比和高灵活性的特点得以展现，可确保芯片的质量和性能。这使得它成为生命科学研究和相关应用中的重要工具。
UV Litho-S+ 无掩模光刻系统是高速版的无掩模版紫外光刻机，其配备了先进的高速空间光调制器以及高功率紫外激光器。这一系列的光刻机不仅保证了高精度和高灵活性，更在这一基础上，拥有了更高的光刻效率。其独特的性能特点使其特别适合小批量生产的场景。在该场景中，它能够发挥出其高效的优势，为生产带来更高的效率和更好的质量。
UV Litho-ACA Master无掩模光刻系统是科研版的无掩模版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩模光刻，优异的灵活性使其成为科学研究的选择。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其独特的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了有力的支持，助力科学研究领域的发展和创新。
Nanocrystal 大幅面纳米光刻系统是专门为纳米光学结构制备而设计的无掩模光刻系统，配置了可连续变空频的位相干涉系统，实现亚波长光学结构的亚纳米调控精度制备。
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