专注科研设备
可信赖的服务与解决方案顾问18988909872
产品分类
Cassification
VOYAGER 高性能电子束光刻系统集稳定高性能与简易操作性于一体，全生命周期具备优异的性价比，是适用于科研学术与工业应用场景的通用型解决方案。设备采用全自动、出色人体工学设计，搭载智能功能与创新架构，可最大限度缩短检测出结果的周期。此外，标配耐环境防护罩，即便在非理想实验室环境下也能保障系统稳定运行，进一步提升了设备的可靠性与使用便捷性。
EBPG 超高性能电子束光刻系统以高精度实现稳定可重复的工艺结果，确保在各类基底上获得高器件良率，是该电子束光刻系统的核心设计准则。在此基础上，EBPG 极其适用于量产工况、工业研发场景以及顶尖科研机构，可满足各类对电子束光刻（EBL）性能有着严苛且无妥协要求的专业应用需求。
ULTRA 半导体有掩模直写光刻系统为微控制器、电源管理集成电路、发光二极管、物联网设备、光电子学和微机电系统的光掩膜生产提供了功能出色、经济高效的解决方案，可提供大产量和盈利能力所需的速度、精度和可靠性。
VPG+1400 FPD 有掩模光刻系统是全球光掩膜制造商用于大批量生产的体积图案发生器，具有突破性的效率和优异的质量。它们是我们专为显示器行业设计的最大系统，专为大面积光掩膜的高通量图案化而量身定制，最大尺寸可达 G8.6，最大曝光面积为 1400 x 1800 mm²。它们是希望在平板显示器行业取得出色成就的制造商的最佳解决方案。
VPG+ 800 有掩模光刻系统是为 i-line 光刻胶多用途掩膜制造而设计的多功能的光刻系统。这些系统擅长在从小型到大型的各种基板上创建高分辨率图形，能够处理最大 800 x 800 mm² 的基板。VPG+ 系统非常适用于先进产业的广泛应用，旨在满足现代微加工不断变化的需求。
DWL 2000 GS 激光直写光刻系统是高速且灵活的高分辨率图案生成器。这些系统针对工业级灰度光刻进行了优化，设计用于对集成电路、MEMS、微光学和微流控器件、传感器、全息图的安全特征进行高通量掩模和晶圆图案化。
欢迎来到
相关文章
联系人：李先生
地址：海珠区新港西路135号628栋A座13F
邮箱：support@huazhaotech.cn
座机：020-89887606
