DWL 2000 GS 激光直写光刻系统是高速且灵活的高分辨率图案生成器。这些系统针对工业级灰度光刻进行了优化，设计用于对集成电路、MEMS、微光学和微流控器件、传感器、全息图的安全特征进行高通量掩模和晶圆图案化。

Name: DWL 2000 GS 激光直写光刻系统
Brand: STELLA/海德堡仪器
Availability: InStock

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DWL 2000 GS 激光直写光刻系统是高速且灵活的高分辨率图案生成器。这些系统针对工业级灰度光刻进行了优化，设计用于对集成电路、MEMS、微光学和微流控器件、传感器、全息图的安全特征进行高通量掩模和晶圆图案化。

专业灰度光刻模式能够在厚光刻胶的大面积上进行复杂2.5D结构的图案化。具有最小特征尺寸500 nm、最大写入面积400 × 400 mm2以及可选自动上料系统，DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 系统特别适用于用于电信、照明和工业显示制造的晶圆级微光学，以及生命科学领域的器件制造。

DWL 2000 GS 激光直写光刻系统产品亮点

曝光质量

CD 均匀度 60 nm；边缘粗糙度 40 nm；对准精度 60 nm；第二层对准 250 nm；自动对焦补偿 80 µm

灰度平版印刷

1024 灰度级；专用 GenISys BEAMER 软件可优化复杂几何图形的曝光效果

温控流动箱

温度稳定性 ± 0.1°，ISO 4 环境

曝光速度

200 × 200 mm2 面积在灰度模式下 <60 分钟

基底尺寸大

最大 20 / 40 厘米

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