VPG+ 800 有掩模光刻系统是为 i-line 光刻胶多用途掩膜制造而设计的多功能的光刻系统。这些系统擅长在从小型到大型的各种基板上创建高分辨率图形，能够处理最大 800 x 800 mm² 的基板。VPG+ 系统非常适用于先进产业的广泛应用，旨在满足现代微加工不断变化的需求。

Name: VPG+ 800 有掩模光刻系统
Brand: STELLA/海德堡仪器
Availability: InStock

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VPG+ 800 有掩模光刻系统是为 i-line 光刻胶多用途掩膜制造而设计的多功能的光刻系统。这些系统擅长在从小型到大型的各种基板上创建高分辨率图形，能够处理最大 800 x 800 mm² 的基板。VPG+ 系统非常适用于先进产业的广泛应用，旨在满足现代微加工不断变化的需求。

所有 VPG+型号都配备了分辨率低至 10 nm 的干涉仪，专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率，而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的严格要求，从而确保了始终如一的质量。

VPG+ 800 有掩模光刻系统亮点

曝光质量

亚微米分辨率、均匀光盘、灵活且可互换的写入模式以及高分辨率地址网格

高曝光速度

定制高速空间光调制器；优化的光学引擎性能和数据通道，使其成为同类产品中市场上速度最快的工具；14 英寸（400 mm）在 21 分钟内完成

写作的稳定性

集成环境计量、流量箱和软件修正功能，以补偿环境变化

校准和计量

计量功能包括：通过写入镜头进行顶面校准；自动全局和现场校准，并进行畸变校正；写入区域的精密二维校正矩阵

数据准备

易于使用的灵活书写网格；在线转换和高级数据优化

自动对焦

自动对焦（气动或光学），动态补偿可达 150 微米

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