EBPG 超高性能电子束光刻系统以高精度实现稳定可重复的工艺结果，确保在各类基底上获得高器件良率，是该电子束光刻系统的核心设计准则。在此基础上，EBPG 极其适用于量产工况、工业研发场景以及顶尖科研机构，可满足各类对电子束光刻（EBL）性能有着严苛且无妥协要求的专业应用需求。

Name: EBPG 超高性能电子束光刻系统
Brand: Raith
Availability: InStock

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EBPG 超高性能电子束光刻系统以高精度实现稳定可重复的工艺结果，确保在各类基底上获得高器件良率，是该电子束光刻系统的核心设计准则。在此基础上，EBPG 极其适用于量产工况、工业研发场景以及顶尖科研机构，可满足各类对电子束光刻（EBL）性能有着严苛且无妥协要求的专业应用需求。

EBPG 超高性能电子束光刻系统主要特征

・5 纳米以下高分辨率光刻工艺

・晶圆及多样品自动曝光功能

・曝光参数自动切换与校准，可在高吞吐量模式（最高束流 350 纳安）与高分辨率模式之间无缝稳定切换

・全球顶尖套刻精度

・超高速工件台，稳定建立时间极短

・双工位 / 十工位自动气锁装置

・快速无差错样品对准

・先进图形裂解模式，实现低线边缘粗糙度与最高图形保真度

・高效数据处理能力

・简易易学的图形用户界面与可脚本化终端界面

・支持多权限分级的安全多用户运行环境

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