VPG+1400 FPD 有掩模光刻系统是全球光掩膜制造商用于大批量生产的体积图案发生器，具有突破性的效率和优异的质量。它们是我们专为显示器行业设计的最大系统，专为大面积光掩膜的高通量图案化而量身定制，最大尺寸可达 G8.6，最大曝光面积为 1400 x 1800 mm²。它们是希望在平板显示器行业取得出色成就的制造商的最佳解决方案。

产品型号：
厂商性质：经销商
更新时间：2026-04-30
访问量：22

产品咨询联系我们

产品分类

Cassification

半导体设备

原子层沉积设备ALD 物理气相沉积设备PVD 化学气相沉积设备CVD 外延设备刻蚀设备Etch 光刻设备离子注入设备化学机械抛光设备CMP 退火炉气体测量控制湿法设备WET 长晶炉设备PVT 氧化扩散设备Furnace 移载传送设备Indexer 紫外线固化炉UV Cure 辅助设备查看全部产品

相关文章

VPG+1400 FPD 有掩模光刻系统是全球光掩膜制造商用于大批量生产的体积图案发生器，具有突破性的效率和优异的质量。它们是我们专为显示器行业设计的最大系统，专为大面积光掩膜的高通量图案化而量身定制，最大尺寸可达 G8.6，最大曝光面积为 1400 x 1800 mm²。它们是希望在平板显示器行业取得出色成就的制造商的最佳解决方案。

VPG+1400 FPD 专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。它们配备了分辨率低至 1.2 nm 的差分干涉仪。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率，而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的严格要求。

VPG+1400 FPD 有掩模光刻系统亮点

边缘粗糙度 20 nm；局部 CD 均匀度 50 nm；地址网格 8 nm；穆拉校正；边缘检测。

写作的稳定性

高度稳定的气候箱、实时气候补偿和软件校正，可应对任何环境变化。

计量软件包，具有自动全局和逐场校准功能，并可进行畸变校正。先进的二维校正矩阵，用于平台位置校准和刀具匹配。

可轻松扩展到各种尺寸，从中小型到 G8.6 显示光罩。

穆拉控制站

间距和面板间距优化

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：