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Cassification
MiScan 高效混合直写光刻系统是为中国市场定制的先进曝光设备，提供多种光源选择及灵活的运动平台配置。其亮点在于高分辨率、精细的灰度等级以及精密的套刻对准精度，并支持百级净化环境下的曝光操作。该系列设备适用于需要高精度加工的领域。
Microlab 多功能直写光刻系统是专门为基础研究而设计的多功能直写光刻系统，配置405nm长寿命光源，能够在多种近紫外光刻胶制备几乎任何需要的微结构，应用例如实验型掩模版、微流控芯片、二维材料电极、微光学、MEMS等，选配355nm紫外光源，适用于SU-8等特殊光刻胶工艺，选配位相干涉、偏振调控模块，可应用于衍射光学器件等研究制备。
iGrapher 大型紫外直写光刻系统是专门为在大尺寸基片（米级幅面）上进行快速并高品质图形化而设计的大型直写光刻系统，iGrapher1000~3000，覆盖了从32英寸~130英寸的光刻幅面，可用于触控、显示、照明等领域的大面积图形制备需求。
ATHOS激光光刻系统是专为全息应用设计的激光光刻系统系列。凭借最高分辨率、最佳性能、灰度能力和高通量，它是全息图、OVD、菲涅尔透镜等多种设备生成的最佳解决方案。
PicoMaster激光直写光刻系统融合了高精度、高速度与强适配性，可满足严苛的微纳加工制造需求。从科研实验室到半导体量产领域，PICOMASTER XF 可推动电子、光子学等多个领域的技术创新发展。
PIONEER 电子束光刻系统是一款集成了电子束光刻（EBL）和扫描电子显微镜（SEM）功能的创新性仪器，专为高校和科研机构设计。它采用先进的热场发射技术、多种检测器以及高精度激光干涉仪控制台，提供“写入与观察”配置，具备模块化设计和高性价比的特点。该系统适用于需要进行纳米结构制造及分析的用户，尤其适合材料学和生命科学研究领域。
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