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Cassification
MJB4有掩膜光刻机通过 MO 曝光光学系统®、多种曝光模式和模块化升级提供可靠的光刻技术。它具有亚微米分辨率和 UV-NIL 选项，为高级研发和试生产提供了灵活的技术基础。
DWL 66+激光直写光刻系统是高性价比、高分辨率的图形发生器，适用于小批量掩膜版制作和直写需求。该设备具有多种选配模块，如对准系统、不同波长的激光发生器以及自动上下板加载系统等，能够满足各种精度要求。它是生命科学、先进封装、MEMS、微光学、半导体等领域至关重要的光刻研究工具。
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