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Cassification
LAB Line物理气相沉积系统专为磁控管溅射沉积设计。该创新设计的优势包括专为超高真空溅射工艺需求量身定制的腔体设计、业内最佳软件控制系统、具备*编程功能、负载锁定功能以及多种优化薄膜性能的功能。
PRO Line PVD 200物理气相沉积系统是一款模块化、功能齐全的薄膜沉积系统，支持8英寸晶圆转印、最多8个溅射阴极和eKLipse高级控制软件。全球服役超过500台，PVD系列是一款经过验证、坚固且多功能的设计，包含PVD 75和200平台。
PRO Line PVD 75物理气相沉积系统是基于主力PVD 75平台的下一代薄膜沉积系统。PVD 75在全球服役超过400台，是一款经过验证、坚固且多功能的设计。PRO Line PVD 75在原设计的基础上改进了基础压力和泵送速度。技术*的腔体设计、业内出色的软件控制系统（具备*编程能力）、自动基底加载以及多种优化薄膜性能的功能，是这一创新的设计所带来的一些关键优势。
NANO 36™物理气相沉积系统是我们优化的入门级沉积系统。我们的腔室设计特别适合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面积，提供了实惠的价格点，同时保持了您期望从 KJLC 获得的质量。
MiniLab 125物理气相沉积系统优化为多技术应用，采用模块化磁控管溅射和热蒸发PVD系统，适用于直径最大11英寸的基板。
SD-650MHT物理气相沉积系统采用*的机械设计和精密控制系统，具备出色的真空水平和稳定的气体控制能力。其核心部件包括旋转真空泵和涡轮分子泵的组合，能够快速实现5×10^-5Pa的真空，确保涂层过程中的高效率和稳定性。
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