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Cassification
单靶 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统为多种薄膜沉积应用提供了最大灵活性。NEXUS PVD支持200毫米，具备先进的工艺能力、出色的均匀性和多种沉积模式。
PVD-BATCH DRUM SERIES物理气相沉积系统由两种标准尺寸（PVD 200 和 PVD 500）组成，可配置为水平或垂直配置。当颗粒物是一个主要问题时，水平配置优先。水平和垂直配置均可用于 3D 涂层的双轴旋转。通过每次运行的沉积面积来衡量的吞吐量范围从几百平方英寸到超过 2000 平方英寸，并且还提供更大的定制系统。
Super-SPECTROS™ 200物理气相沉积系统是一套优良的有机薄膜沉积和金属化系统，针对有机材料沉积进行了优化。它能够实现精确的薄膜沉积控制，可沉积多种材料，如氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、非晶硅等硅基薄膜，以及各种金属薄膜，在半导体、光电等领域有广泛应用 。
SPECTROS™ 150物理气相沉积系统是基于SPECTROS平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台在全球服役超过100台，是一款经过验证、坚固且多功能的设计。SPECTROS在原设计的基础上取得了改进，提高了系统基压和泵送速度。技术优良的腔室设计、业内优秀软件控制系统、具备优良编程能力、实时配方线程作以及众多优化薄膜性能的功能，是这一创新的设计所带来的主要优势。
Mini SPECTROS物理气相沉积系统是基于主力SPECTROS平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台在全球服役超过100台，是一款经过验证、坚固且多功能的设计。Mini SPECTROS在原设计的基础上取得了改进，提升了系统的基础压力和泵送速度。技术优良的腔室设计、业内出色软件控制系统、具备优良编程能力、实时配方线程作以及众多优化薄膜性能的功能，是这一创新的设计所带来的主要优势。
CMS Series物理气相沉积系统极其强大的优良研究工具设计用于适应特定的薄膜应用，如 GMR、CMS、半导体、纳米级器件、光子学和光伏。经过现场测试和验证的设计系统设计可以配置为真正的超高真空性能。
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