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当前位置：首页 > 产品中心 > 半导体设备 > 物理气相沉积设备PVD > PRO Line PVD 200物理气相沉积系统
产品分类
Cassification
详细介绍
PRO Line PVD 200物理气相沉积系统是一款模块化、功能齐全的薄膜沉积系统，支持8英寸晶圆转印、最多8个溅射阴极和eKLipse高级控制软件。全球服役超过500台，PVD系列是一款经过验证、坚固且多功能的设计，包含PVD 75和200平台。PRO Line PVD 200物理气相沉积系统在原设计的基础上改进了基础压力和泵送速度。技术*的腔体设计、业内出色的软件控制系统（具备*编程能力）、自动基底加载以及多种优化薄膜性能的功能，是这一创新的设计所带来的一些关键优势。
箱体，304不锈钢室
内部维度选项：
对于溅射或短行程蒸发/E-梁：
19.25英寸宽 x 20.5英寸深 x 24英寸
高（488.95毫米宽 x 520.7毫米深 x 609.6毫米高）
铝制，密封O型圈，带铰链，前门
箱体，304不锈钢室
对于溅射应用或长距离蒸发/电子梁：
19.25英寸宽 x 20.5英寸深 x 36英寸高
（488.95毫米宽 x 520.7毫米深 x 914.4毫米高）
铝制，O型圈密封，带铰链，前门
热蒸发
最多可配备六艘4英寸单人艇
托鲁斯磁控管溅射源
最多八个2英寸或3英寸的源
电子束蒸发源
4 口袋8cc
8 口袋12cc
6 口袋20cc
LTE10有机沉积源
最多两个10cc的电源
附加选项
上述技术的组合
可根据要求提供定制配置
热蒸发
上
托鲁斯磁控管溅射源
向上、向下或侧边溅射
电子束蒸发
上
LTE有机沉积
上
旋转、加热、冷却、偏置、负载锁定兼容
直流、PDC、射频、中频和HIPIMS 电源
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