LAB Line物理气相沉积系统专为磁控管溅射沉积设计。该创新设计的优势包括专为超高真空溅射工艺需求量身定制的腔体设计、业内最佳软件控制系统、具备*编程功能、负载锁定功能以及多种优化薄膜性能的功能。

Name: LAB Line物理气相沉积系统
Brand: KURT.J.LESKER
Availability: InStock

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Cassification

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LAB Line物理气相沉积系统专为磁控管溅射沉积设计。该创新设计的优势包括专为超高真空溅射工艺需求量身定制的腔体设计、业内最佳软件控制系统、具备*编程功能、负载锁定功能以及多种优化薄膜性能的功能。

LAB Line物理气相沉积系统兼容以下技术：

环形磁控管溅射（最多12个源）®

可根据要求提供定制配置

KJLC创新的eKLipse™软件支持用户友好的食谱创建，同时拥有直观易懂的图形界面，适合资深专业人士。如需了解更多关于这款直观、独特且可靠的软件包的信息，请参见软件标签页。

应用：

R&D 溅射沉积

微电子学（金属、金属氧化物、介质）

数据存储（磁性薄膜）

磁隧道交汇点

超导材料

约瑟夫森交汇处

光学薄膜与光子学

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