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Cassification
GEN20 MBE分子束外延系统是一款超灵活的工具，设计可针对III-V型及新兴材料进行配置，包括需要电子束技术集成的应用。该系统集成了生产设计技术，支持可选的集群工具晶圆转移系统，实现理想的实验室到晶圆间迁移。
GENxcel R&D MBE分子束外延系统具备易于使用的手动传输系统、12个源端口和现代电子设备，集成于单一框架设计中，可实现大的实验室占地面积效率。
GEN10 MBE分子束外延系统是经过验证的平台中最灵活的集群工具系统，支持最多三个可配置的材料特定增长模块。这使得系统利用率高，使多位研究人员能够同时使用系统，进行无人值守的生长和校准。结合Veeco零部件技术，是MBE社区无论应用何种，都选择GEN10™ MBE系统的关键因素。
GENxplor R&D MBE分子束外延系统是一款面向化合物半导体研发市场的集成式分子束外延设备，以紧凑单框架设计和高工艺灵活性著称，适用于多种前沿材料的原子级精确生长研究。
SI 591反应离子刻蚀（RIE）设备采用模块化设计，适用于III/V半导体和Si加工工艺，具备高均匀性和优重复性的蚀刻工艺。其主要特点包括预真空锁loadlock、电脑控制操作、数据资料记录及穿墙式安装方式等。该设备支持全自动/手动过程控制，智能过程控制及多用户权限设置，可选配多种功能以满足不同需求。
CL4514型氧化扩散设备是各大院校、科研机构、实验室中的典型热处理设备，用于微电子系集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等学科中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺的教学和试验工作。
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