SPECTROS™ 150物理气相沉积系统是基于SPECTROS平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台在全球服役超过100台，是一款经过验证、坚固且多功能的设计。SPECTROS在原设计的基础上取得了改进，提高了系统基压和泵送速度。技术优良的腔室设计、业内优秀软件控制系统、具备优良编程能力、实时配方线程作以及众多优化薄膜性能的功能，是这一创新的设计所带来的主要优势。

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厂商性质：经销商
更新时间：2026-03-04
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SPECTROS™ 150物理气相沉积系统兼容以下技术：

1cc或10cc LTE源（除了热源外，最多可支持10个源）

4英寸热源（最多4个热源，加上LTE源）

TORUS磁控管溅射源（最多八个2英寸或3英寸源）®

电子束蒸发源（4个口袋8cc，8个口袋12cc，6个口袋20cc）

上述技术的组合也可用

可根据要求提供定制配置

KJLC的软件支持用户友好的创建，并配备可靠且不间断的处理模块，无论计算机界面状态如何都能完成流程。

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