当前位置:首页 > 产品中心 > 半导体设备 > 物理气相沉积设备PVD > PVD-BATCH DRUM SERIES物理气相沉积系统

产品分类
Cassification
详细介绍
PVD-BATCH DRUM SERIES物理气相沉积系统由两种标准尺寸(PVD 200 和 PVD 500)组成,可配置为水平或垂直配置。当颗粒物是一个主要问题时,水平配置优先。水平和垂直配置均可用于 3D 涂层的双轴旋转。PVD-BATCH DRUM SERIES物理气相沉积系统通过每次运行的沉积面积来衡量的吞吐量范围从几百平方英寸到超过 2000 平方英寸,并且还提供更大的定制系统。
PVD 200 鼓式涂层机
PVD 500鼓式涂层机
水平或垂直
水平或垂直
沉积面积
最多300平方英寸(整体滚筒=9英寸外径 x 15英寸LG)
沉积面积
最多1,440平方英寸(整体鼓筒=30.5英寸外径 x ≈21英寸LG)
供暖、制冷、偏置、可拆卸面板
三维组件的单轴与双轴旋转
离子刻蚀选项
供暖、制冷、偏置、可拆卸面板
三维组件的单轴与双轴旋转
离子刻蚀选项
最多可选择(4)面,用于线性阴极或线性离子源
最多可选择(7)面,用于线性阴极或线性离子源
直流、PDC、射频、中频和HIPPIMS电源
直流、PDC、射频、中频和HIPPIMS电源
通过可折叠/铰链门轻松访问溅射源
通过可折叠/铰链门轻松访问溅射源
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