ALD-150LX™原子层沉积系统是一套专为优良研发（R&D）应用设计的原子层沉积（ALD）系统。创新的ALD150LX设计特性，如我们的前体聚焦技术™，以及超高纯度（UHP）工艺能力等进步，为其提供了优秀的灵活性和性能。该ALD150LX强调在研发层面支持和支持创新、前沿技术，不仅作为独立平台，还通过集群工具配置与额外的工艺和分析模块实现连接。

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更新时间：2026-03-04
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ALD-150LX™原子层沉积系统专为高级研发（R&D）应用而设计。创新的ALD150LX设计功能，如我们的前驱体聚焦技术™，以及我们超高纯度（UHP）工艺能力等进步技术，提供了灵活性和性能。该ALD150LX强调在研发层面启用和支持创新的技术，不仅作为一个独立的平台，而且在集群工具配置中提供与其他过程和分析模块的连接。®®

ALD150LX集群工具的连接性消除了关键过程和分析步骤之间不必要的大气暴露，从而保护敏感的表面、层及其界面。这种连接性包括集成额外的原子层沉积和分析模块，以及其他 KJLC 薄膜沉积技术，以实现业内多技术工艺和分析能力和支持。结合质量、灵活性和性能，以及多种技术处理和分析能力，使ALD150LX成为创新的设计。

ALD-150LX™原子层沉积系统工艺室可以配置为纯热或等离子体增强 ALD。金属和差速泵弹性体密封件的组合可防止大气成分（即 N2、O型2和 H2O）从进入底物所在的反应区，从而促进了UHP工艺环境。特别是，UHP条件降低了背景氧杂质的水平，从而限制了高质量非氧化物基材料及其界面在薄膜生长之前、期间和之后的暴露。在氧化膜生长过程中，氧杂质也是寄生性CVD的来源。我们垂直流设计可实现分离、均匀的前驱体输送，并促进前驱体利用率的提高以及服务间隔之间的平均时间延长。为避免不必要的材料在输送通道内积聚和颗粒形成，四个独立的腔室入口（不包括等离子体）可用于前驱体分离。例如，可以使用单独的入口来分离金属有机前体和共反应物，以防止在输送管线和阀门中沉积。

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