咨询热线

18988909872

当前位置:首页   >  产品中心  >  半导体设备  >  原子层沉积设备ALD  >  Fiji ALD原子层沉积系统

Fiji ALD原子层沉积系统
简要描述:

Fiji ALD原子层沉积系统是一种模块化、高真空热原子层沉积系统,采用灵活的架构和多种前驱体和等离子体气体配置,可适应各种沉积模式。Fiji 是下一代 ALD 系统,能够执行热成像和等离子体增强沉积。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-03-05
  • 访  问  量:41

详细介绍

Fiji ALD原子层沉积系统是一种模块化、高真空热原子层沉积系统,采用灵活的架构和多种前驱体和等离子体气体配置,可适应各种沉积模式。Fiji ALD是下一代 ALD 系统,能够执行热成像和等离子体增强沉积。

我们应用了的计算流体力学分析,优化Fiji ALD反应堆、加热器和陷阱几何结构。系统的直观界面使得监控和根据需要更改配方和流程变得轻松。

Fiji ALD原子层沉积系统的功能包括:

专有腔室涡轮泵系统                       

改进等离子体设计                

人体工学界面                                       

原位椭偏度                    

原位石英晶体微观天平                                           

综合臭氧                   

手套箱接口                                             

Fiji ALD提供最多六条前驱体管线,可容纳固体、液体或气体前驱体,以及六条等离子体气体管线,在紧凑且经济的占地内提供显著的实验灵活性。


产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
华兆科技(广州)有限公司
  • 联系人:李先生
  • 地址:海珠区新港西路135号628栋A座13F
  • 邮箱:support@huazhaotech.cn
  • 座机:020-89887606
关注我们

欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息

扫一扫
关注我们
版权所有©2026华兆科技(广州)有限公司All Rights Reserved    备案号:粤ICP备2025445348号-2    sitemap.xml    总访问量:5399
管理登陆    技术支持:化工仪器网