FlexAL ALD原子层沉积系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。

Name: FlexAL ALD原子层沉积系统
Brand: OXFORD/英国牛津
Availability: InStock

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FlexAL ALD原子层沉积系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。

在同一设备中可灵活使用远程等离子体与热ALD

集群式配置保证始终于真空下传送衬底

盒式对盒式操作可提高产能以适于量产

对材料和气体/液体源的选择具有更大的灵活性

等离子体ALD可进行低温工艺

使用远程等离子体以确保低损伤

通过配方驱动的软件界面实现可控的和可重复的工艺

可处理高达200mm的晶圆

FlexAL ALD原子层沉积系统特征：

气体/液体源前驱体模式上 - 一体化手套箱 —— 实时转换

一体化端口 - 允许添加实时椭偏仪测量工具

集群式配置 - 始终于真空下传送衬底

盒式对盒式操作 - 可提高产能以适于量产

机器手臂与片盒式 - 可处理100mm，150mm或200mm晶圆（无需额外设备进行晶圆交换）

所有系统都可以放置于超净间内或嵌入墙体 - 易于放置

自动化的200mm晶圆真空传送 - 工艺灵活性

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