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Cassification
nano PVD-T15A物理气相沉积系统是一种台式蒸发系统，优化用于沉积各种高熔点金属和挥发性有机物。体积紧凑如电子显微镜涂层机，但配备优良硬件以实现研究级效果。
单靶 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统为多种薄膜沉积应用提供了最大灵活性。NEXUS PVD支持200毫米，具备先进的工艺能力、出色的均匀性和多种沉积模式。
SIPAR ICP化学气相沉积系统开发并设计适用于多种沉积模式和工艺，采用灵活的系统架构。该工具包括ICP等离子体源PTSA、一个动态温控基板电极和一个全部控制的真空系统。
Depolab 200 PECVD 开放盖化学气相沉积系统具有坚固的设计、可靠性和灵活的软硬件。该系统开发了多种工艺，例如高品质氮化硅和氧化硅层沉积。该系统包括带燃气箱的反应器单元、控制电子设备、计算机、倒车泵和主连接箱。
SI 500 D ICPECVD化学气相沉积系统代表了感应耦合等离子体（ICP）处理在研究和工业领域的前沿地位，用于等离子体增强化学气相沉积，涵盖介电薄膜、非硅、硅化及其他材料。
SILAYO PEALD 光学涂层原子层沉积系统扩展了 SENTECH ALD 和 PEALD 产品组合，适用于 330 毫米基底和三维基底的沉积。
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