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Cassification
Phoenix ALD原子层沉积系统设计旨在实现高通量和最大运行时间，适用于从试点生产到工业级制造的任何制造环境。Phoenix®支持多达六条独立前驱体线，根据您的薄膜需求提供固体、液体或气态工艺化学。紧凑的布局和创新的设计使凤凰®成为批量生产ALD需求的实用选择。
ALD-150LE™原子层沉积系统是我们实惠但极其灵活性的原子层沉积（ALD）系统，专为入门到中级用户设计。该ALD150LE™配置为纯热ALD设计，其独特的工艺腔体设计促进了均匀的前驱体扩散和传递。优秀的供暖和温控进一步提升了系统性能。总体而言，ALD150LE™在紧凑设计中提供了优秀的灵活性和性能，同时不牺牲可用性。
ALD-150LX™原子层沉积系统是一套专为优良研发（R&D）应用设计的原子层沉积（ALD）系统。创新的ALD150LX设计特性，如我们的前体聚焦技术™，以及超高纯度（UHP）工艺能力等进步，为其提供了优秀的灵活性和性能。该ALD150LX强调在研发层面支持和支持创新、前沿技术，不仅作为独立平台，还通过集群工具配置与额外的工艺和分析模块实现连接。
PVD-BATCH DRUM SERIES物理气相沉积系统由两种标准尺寸（PVD 200 和 PVD 500）组成，可配置为水平或垂直配置。当颗粒物是一个主要问题时，水平配置优先。水平和垂直配置均可用于 3D 涂层的双轴旋转。通过每次运行的沉积面积来衡量的吞吐量范围从几百平方英寸到超过 2000 平方英寸，并且还提供更大的定制系统。
Super-SPECTROS™ 200物理气相沉积系统是一套优良的有机薄膜沉积和金属化系统，针对有机材料沉积进行了优化。它能够实现精确的薄膜沉积控制，可沉积多种材料，如氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、非晶硅等硅基薄膜，以及各种金属薄膜，在半导体、光电等领域有广泛应用 。
SPECTROS™ 150物理气相沉积系统是基于SPECTROS平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台在全球服役超过100台，是一款经过验证、坚固且多功能的设计。SPECTROS在原设计的基础上取得了改进，提高了系统基压和泵送速度。技术优良的腔室设计、业内优秀软件控制系统、具备优良编程能力、实时配方线程作以及众多优化薄膜性能的功能，是这一创新的设计所带来的主要优势。
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