Beneq P400A ALD原子层沉积系统专为不同类型的基材进行优化批次尺寸的涂层而设计——体积足够大以提供显著容量，同时又足够小以保持批次间优异的均匀性和短周期。我们的客户使用P400A用于光学涂层以及ALD在玻璃或金属板上的应用。

Name: Beneq P400A ALD原子层沉积系统
Brand: Beneq
Availability: InStock

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Beneq P400A ALD原子层沉积系统专为不同类型的基材进行优化批次尺寸的涂层而设计——体积足够大以提供显著容量，同时又足够小以保持批次间优异的均匀性和短周期。我们的客户使用P400A用于光学涂层以及ALD在玻璃或金属板上的应用。

Beneq P400A ALD原子层沉积系统特点：

批次ALD

大小刚好。Beneq P400A 通常用于直径从 20mm 到 300mm 不等的批次基底。批量配置可针对特定零件、片材、晶圆或其他基底进行优化。

设计与设置

每个客户都是不同的。让我们为您选择并设计适合基材和应用的最佳工具配置和ALD工艺。

P400A的多功能设计使其可以轻松切换不同的反应室和基底支架。这意味着你可以用同一套ALD系统顺利从研发过渡到批量生产。Beneq提供定制化的应用开发和试点生产支持，让你在建立自己的ALD生产能力前先测试。

厚胶片堆叠

厚胶片堆（> 1微米）的理想ALD工具。大批量厚膜堆栈需要大量前驱物，同时产生大量残渣和副产物。为应对这些挑战，P400A配备了高容量前驱体源及前驱体去活化过滤系统。

经过35+年工业生产的开发成果，采用大量>1微米厚的胶片堆，Beneq P400A全天候可靠可靠。

前身

氧化物、氮化物、硫化物、金属等。选择合适的工艺和前体材料可能很棘手。什么时候使用高温和低温？前驱体材料使用安全吗？

请我们的专家帮您找到适合您应用的材料或材料组合。Beneq P400A可从室温升至550°C，轻松处理气体、液体和固体前驱物，包括有毒、易燃和腐蚀性前驱物。

维护

维护更简单，维护频率也更低。ALD工具沉积厚厚的胶片堆通常需要每月清洁。P400A的高容量泵管过滤网使该工具即使在大规模生产中也能连续运行数月而无需维护。

更换ALD反应室可能需要一整天时间，因为需要冷却，但P400A能将时间缩短到几分钟。其设计允许简单地拉出反应室及其他需要清洁的部件。

多室设计

避免维护带来不必要的停机时间。Beneq P400A 使用多个反应室，每次运行间持续切换。这可以最大限度地减少维护相关的生产停机时间。

预热烤箱

Beneq的专有预热器。可选的预热烤箱缩短加热时间，进一步提升您的产量。

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