Genesis ALD原子层沉积系统适用于电池、太阳能和柔性电子设备的功能性ALD涂层。Genesis ALD非常适合涂覆任何卷状基材，并适用于多种功能应用。

Name: Genesis ALD原子层沉积系统
Brand: Beneq
Availability: InStock

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Cassification

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Genesis ALD原子层沉积系统适用于电池、太阳能和柔性电子设备的功能性ALD涂层。Genesis ALD非常适合涂覆任何卷状基材，并适用于多种功能应用。

Genesis ALD原子层沉积系统特点：

1.市场与应用

适用于电池、太阳能和柔性电子设备的功能性ALD涂层。Genesis ALD非常适合涂覆任何卷状基材，并适用于多种功能应用。

各种锂离子和固态电池阴极和阳极的钝化

柔性太阳能电池的导电层与封装

柔性电子设备的防潮层

2.材料选择

丰富的ALD材料选择，满足您的需求。多年来，Beneq在研发和工业生产领域开创了卷对卷ALD系统。我们的常用材料包括铝氧化物、钛氧化物、锌氧化硫、氧化硫、氧化硅，或根据需求提供的其他材料。

3.特色亮点

网宽：最大420毫米

铝合金涂层厚度：最大100nm

动态沉积速率（Al2O3）：10 nm *m/min

工艺温度：最高250°C

4.定制化

Genesis ALD最大宽度为420毫米，适合实验室研发或试点规模生产。设计用于将ALD薄膜处理到聚合物或金属等柔性基材上。

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