Beneq P800 ALD原子层沉积系统专门设计用于涂覆复杂形状的大件或大批量的小件。我们的客户使用P800用于光学涂层、半导体设备部件的防腐蚀涂层，以及用于玻璃或金属片的各种ALD应用。

Name: Beneq P800 ALD原子层沉积系统
Brand: Beneq
Availability: InStock

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Beneq P800 ALD原子层沉积系统专门设计用于涂覆复杂形状的大件或大批量的小件。我们的客户使用P800用于光学涂层、半导体设备部件的防腐蚀涂层，以及用于玻璃或金属片的各种ALD应用。

大型零件需要大型ALD工具。Beneq P800 通常用于直径大于 600mm 的批次零件。大批量生产能力还能降低小零件的成本，使ALD在许多应用领域具有商业可行性。

Beneq P800 ALD原子层沉积系统特点：

设计与设置

每个客户都是不同的。我们根据每位客户的基材和应用选择并设计最佳工具配置及ALD工艺。P800的设计便于在不同反应室和底片支架之间切换。这种内置的多功能性意味着你可以用同一套ALD系统顺利从研发过渡到批量生产。Beneq提供定制化的应用开发和试点生产支持，让你在建立自己的ALD生产能力前先测试。

厚胶片堆叠

厚胶片堆（> 1微米）的理想ALD工具。大量厚胶片堆叠需要大量前驱物，并产生大量残留物和副产物。我们设计了P800，配备了大容量前驱源和前驱体去活化过滤系统，以应对这些挑战。Beneq P800 是经过35+年工业生产开发的成果，采用了大量>1微米厚的胶片堆。坚固可靠，全天候24小时。

前身

氧化物、氮化物、硫化物、金属等。选择合适的工艺和前体材料可能很棘手。什么时候使用高温和低温？前驱体材料使用安全吗？请咨询Beneq专家，帮你找到适合你应用的材料或材料组合。P800可从室温温度升至550°C，轻松处理气态、液体和固体前驱物，包括有毒、纵火性和腐蚀性前驱物。

维护

维护更简单，维护频率也更低。ALD工具沉积厚厚的胶片堆通常需要每月清洁。P800的高容量泵管过滤网使该工具即使在大规模生产中也能运行数月而无需维护。另外，更换ALD反应室通常需要一整天，因为你需要先让它们冷却。P800设计将这一过程缩短到几分钟，用户只需简单地拉出反应室和其他需要清洁的部件即可。

多室设计

避免维护带来不必要的停机时间。Beneq P800使用多个反应室，每次运行间持续更换，从而最大限度地减少维护相关的生产停机时间。

预热烤箱

Beneq的专有预热器。我们的可选预热烤箱缩短加热时间，进一步提升您的产量。

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