Beneq P1500 ALD原子层沉积系统是我们最大的ALD系统，专门用于涂层大片板材和复杂零件。它还设计用于提高批量较小部件的吞吐量。我们的客户使用P1500用于大直径基板的光学涂层、半导体设备部件的防腐蚀涂层，以及ALD在玻璃或金属板上的各种应用。

Name: Beneq P1500 ALD原子层沉积系统
Brand: Beneq
Availability: InStock

产品咨询联系我们

产品分类

Cassification

相关文章

详细介绍

Beneq P1500 ALD原子层沉积系统是我们最大的ALD系统，专门用于涂层大片板材和复杂零件。它还设计用于提高批量较小部件的吞吐量。我们的客户使用P1500用于大直径基板的光学涂层、半导体设备部件的防腐蚀涂层，以及ALD在玻璃或金属板上的各种应用。

Beneq P1500 ALD原子层沉积系统特点：

规模

大型零件需要大型ALD工具。Beneq P1500 可容纳尺寸高达 1300 毫米× 2400 毫米的零件，并支持在广面积镜面或透镜上沉积高质量且功能性的光学涂层。它也用于涂覆300至1000毫米尺寸的批量零件。

可能的基质包括：

第四代到第六代显示玻璃

光伏玻璃片

天文镜

半导体腔室盖、衬垫和淋浴喷头

印刷电路板

提高小批次底物的通量

Beneq P1500 能够扩大批量生产规模，并为工作流程增加额外的涂层能力。

与小型批次工具相比，P1500可以大幅提升涂层的产量。此外，其大批量产能降低了小件涂层的成本，使ALD在许多应用领域具有商业可行性。

设计与设置

每个客户都是不同的。使用P1500，你可以选择不同的反应室和底物支架配置。让我们为您选择并设计适合基材和应用的最佳工具配置和ALD工艺。

多腔室功能

避免维护带来不必要的停机时间。Beneq P1500使用多个反应室，每次运行间持续切换，从而最大限度地减少维护相关的生产停机时间。

厚度多样性

按你需要的比例存入。大批量生产需要大量前驱物，并产生大量残渣和副产物。为应对这些挑战，P1500配备了高容量前驱体源和前驱体去活化与过滤系统，用于沉积厚度从纳米到微米级的胶片批次。

Beneq P1500是我们坚固可靠的P系列最新车型，拥有35+年工业ALD批量生产经验。

前身

P1500可从室温加热至400°C，轻松处理气态、液体和固体前驱物，包括有毒、纵火性和腐蚀性前驱物。

预热烤箱

Beneq的专有预热器。我们的可选预热烤箱缩短加热时间，进一步提升您的产量。

产品咨询