Beneq C2R ALD空间原子层沉积系统将等离子体增强原子层沉积（PEALD）工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺，Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择，甚至可达几微米。

Name: Beneq C2R ALD空间原子层沉积系统
Brand: Beneq
Availability: InStock

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Cassification

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详细介绍

1.产品概述：

Beneq C2R ALD空间原子层沉积系统将等离子体增强原子层沉积（PEALD）工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺，Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择，甚至可达几微米。

2.产品配置:

Beneq C2R ALD空间原子层沉积系统具有基于 Brooks Automation 值得信赖的 MX400 传输模块的自动化选项。

自动化服务包括：

Brooks MX400 基于集群的模块

双臂扫地机器人

样品对准器

可选预热和冷却

3.产品优势：

超高沉积速率，高达每小时几微米

批量 PEALD 工艺，适用于多达 7 个 200 mm 晶圆

适用于厚度达 30 mm 的镜头和其他 3D 基板

膜厚均匀性高，适用于要求苛刻的光学镀膜应用

可配备负载锁或晶圆自动化

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Beneq C2R ALD空间原子层沉积系统将等离子体增强原子层沉积 （PEALD） 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺，Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择，甚至可达几微米。