SI PEALD等离子体增强原子层沉积系统能够在低温下均匀且贴合地涂层敏感基底和层。样品表面提供高通量的反应性气体，无需紫外线或离子轰击。

Name: SI PEALD等离子体增强原子层沉积系统
Brand: SENTECH
Availability: InStock

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SI PEALD等离子体增强原子层沉积系统能够在低温下均匀且贴合地涂层敏感基底和层。样品表面提供高通量的反应性气体，无需紫外线或离子轰击。

SI PEALD等离子体增强原子层沉积系统主要特点与优势

PEALD用于敏感基底

SENTECH SI PEALD系统采用真正的远程等离子源，能够在低温<100°C下均匀且贴合地覆盖敏感基底和层层。样品表面提供高通量的活性气体，无需紫外线或离子轰击。

原子层沉积（ALD）用于精确、共形和均匀沉积

ALD沉积技术的特点是能够在原子层面精确控制厚度，沉积出共形和均匀薄膜，并且在半导体器件如高介电材料沉积中持续发挥重要作用。ALD的主要应用包括传感器、光电子学和二维材料。

工艺开发与优化的原位诊断

AL实时监测仪的原位诊断实现了单次ALD循环的超高分辨率。其优势包括确认ALD制度、缩短处理时间以及整体拥有成本。光谱椭偏仪也作为原位诊断技术提供，对我们的原子层沉积系统具有特殊优势。

轻松清理反应堆

定期清洗反应堆对于稳定且可重复的原子层沉积处理至关重要。通过提升装置，反应堆室可以轻松打开，用于清洁我们的原子层沉积系统。

集群积分

原子层沉积系统作为SENTECH集群工具的模块提供。我们的原子层沉积系统可与SENTECH的PECVD和蚀刻系统结合，应用于工业应用。集群工具可选支持磁带到磁带加载。

手套箱系统集成

SENTECH ALD系统兼容多家供应商的手套箱。

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