nano PVD-T15A物理气相沉积系统是一种台式蒸发系统，优化用于沉积各种高熔点金属和挥发性有机物。体积紧凑如电子显微镜涂层机，但配备优良硬件以实现研究级效果。

Name: nano PVD-T15A物理气相沉积系统
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nano PVD-T15A物理气相沉积系统是一种台式蒸发系统，优化用于沉积各种高熔点金属和挥发性有机物。体积紧凑如电子显微镜涂层机，但配备优良硬件以实现研究级效果。

nano PVD-T15A物理气相沉积系统优化用于热蒸发到直径达4英寸的基材上。它可以配备标准的电阻蒸发源和/或低温蒸发（LTE）源，分别用于沉积金属和有机物。

LTE源具有低热质量，便于更好地控制挥发性有机物蒸发，而金属源则采用我们的盒状屏蔽TE1模型，实现高效沉积和减少交叉污染。

舱室通过一个带铰链的盖子进入，打开后露出适合容纳直径不超过4英寸基底的舞台。腔体较高，便于通过蒸发技术实现高均匀性涂层。

这些设备通过触摸屏HMI界面易于控制，维护简便，运行成本低，并配备全面的安全配置。

凭借涡轮分子泵系统、高真空基压、通过触摸屏HMI实现的简单自动控制以及多种灵活配置选项，nanoPVD-T15A是一款多功能高效的研发解决方案。

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