Depolab 200 PECVD 开放盖化学气相沉积系统具有坚固的设计、可靠性和灵活的软硬件。该系统开发了多种工艺，例如高品质氮化硅和氧化硅层沉积。该系统包括带燃气箱的反应器单元、控制电子设备、计算机、倒车泵和主连接箱。

Name: Depolab 200 PECVD 开放盖化学气相沉积系统
Brand: SENTECH
Availability: InStock

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Depolab 200 PECVD 开放盖化学气相沉积系统具有坚固的设计、可靠性和灵活的软硬件。该系统开发了多种工艺，例如高品质氮化硅和氧化硅层沉积。该系统包括带燃气箱的反应器单元、控制电子设备、计算机、倒车泵和主连接箱。

主要特点与优势

Depolab 200 PECVD 开放盖化学气相沉积系统是一种性价比高的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统，结合了平行板电极设计实现均匀薄膜沉积的优势和灵活的直接载荷设计。从2英寸到200毫米晶圆和样品件的标准应用开始。

成本效益

该系统结合了平行板等离子源设计与直接加载。

可升级性

根据其模块化设计，SENTECH Depolab 200可升级为更大的泵机、低频电源以控制应力，并增加燃气管线。

作系统

用户友好且强大的软件包含图形界面、参数窗口、配方编辑器、数据记录和用户管理。

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