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Cassification
Beneq Transform ALD原子层沉积系统是一款ALD集群工具，专为电力电子（SiC、GaN、Si）、射频、光电子、微型LED、MEMS和传感器领域的技术开发和制造而设计。Beneq Transform专为批量生产打造，能够根据吞吐量和应用需求进行扩展。它是需要表面工程应用的理想平台，如宽带间隙材料的表面钝化。
Atomfab ALD原子层沉积系统为GaN功率器件和射频器件提供快速、低损伤、低运营维护成本的等离子体原子层沉积（ALD）加工。
PlasmaPro ASP ALD原子层沉积系统基于经过生产验证的企业/专业研发平台，旨在形成可集成到器件中的优质薄膜。它足够灵活，可以进行多种化学反应，并可实现高速、高质量的薄膜沉积。其中，我们优良的等离子体增强型原子层沉积（ALD）系统提供了原子层沉积的灵活性、一致性和可调性，以快速实现更高产量和更厚的薄膜。
FlexAL ALD原子层沉积系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。
Fiji ALD原子层沉积系统是一种模块化、高真空热原子层沉积系统，采用灵活的架构和多种前驱体和等离子体气体配置，可适应各种沉积模式。Fiji 是下一代 ALD 系统，能够执行热成像和等离子体增强沉积。
Savannah ALD原子层沉积系统已成为全球从事ALD研究、寻求经济实惠且稳健平台的大学研究人员优先的系统。过去十年中，我们已交付数百套此类系统。Savannah®高效利用前体和节能功能，大幅降低了薄膜沉积系统的运行成本。
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