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Cassification
Depolab 200 PECVD 开放盖化学气相沉积系统具有坚固的设计、可靠性和灵活的软硬件。该系统开发了多种工艺，例如高品质氮化硅和氧化硅层沉积。该系统包括带燃气箱的反应器单元、控制电子设备、计算机、倒车泵和主连接箱。
SI 500 D ICPECVD化学气相沉积系统代表了感应耦合等离子体（ICP）处理在研究和工业领域的前沿地位，用于等离子体增强化学气相沉积，涵盖介电薄膜、非硅、硅化及其他材料。
SILAYO PEALD 光学涂层原子层沉积系统扩展了 SENTECH ALD 和 PEALD 产品组合，适用于 330 毫米基底和三维基底的沉积。
SI PEALD等离子体增强原子层沉积系统能够在低温下均匀且贴合地涂层敏感基底和层。样品表面提供高通量的反应性气体，无需紫外线或离子轰击。
Beneq C2R ALD空间原子层沉积系统将等离子体增强原子层沉积 （PEALD） 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺，Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择，甚至可达几微米。
Genesis ALD原子层沉积系统适用于电池、太阳能和柔性电子设备的功能性ALD涂层。Genesis ALD非常适合涂覆任何卷状基材，并适用于多种功能应用。
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