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Cassification
MiniLab 070 PVD物理气相沉积系统采用前置箱式腔室，针对直径最大11英寸的亚态进行磁控管溅射优化。
MiniLab 026 PVD物理气相沉积系统是紧凑型落地式真空蒸发器，配备易于取用的“蛤壳”腔室。适用于金属、介质和有机物的蒸发或溅射沉积技术。
nano PVD-S10A物理气相沉积系统是一款台式系统，优化用于金属和绝缘材料的射频和直流磁控管溅射。体积紧凑如电子显微镜涂层机，但配备先进硬件以实现研究级效果。
nano PVD-T15A物理气相沉积系统是一种台式蒸发系统，优化用于沉积各种高熔点金属和挥发性有机物。体积紧凑如电子显微镜涂层机，但配备优良硬件以实现研究级效果。
单靶 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统为多种薄膜沉积应用提供了最大灵活性。NEXUS PVD支持200毫米，具备先进的工艺能力、出色的均匀性和多种沉积模式。
SIPAR ICP化学气相沉积系统开发并设计适用于多种沉积模式和工艺，采用灵活的系统架构。该工具包括ICP等离子体源PTSA、一个动态温控基板电极和一个全部控制的真空系统。
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