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Cassification
Universal-H300 CMP化学机械抛光系统是华海清科面向行业前沿需求，开发的一款集优良抛光工艺、高效率、高稳定性于一体的12英寸CMP装备。
Universal-S300 CMP化学机械抛光系统是面向行业前沿需求，开发的一款集优良抛光工艺、高效率、高稳定性于一体的12英寸CMP装备。
TriboLab CMP化学机械抛光系统用其前身产品 （Bruker CP-4） 超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界突出的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。
Nitride MBE Systems分子束外延系统专门设计用于生长高质量的氮化物、铝铵及相关氮化物材料。生长模块设计用于处理高强度活性氮含量，并配备高温基底加热器以实现均匀生长。活性氮由射频等离子体或氨源产生。
MBE 8000分子束外延系统旨在满足高性能复合半导体器件日益增长的需求。 这种8×6'或4×8'固态源MBE系统，在超高真空环境中使用超纯金属，在设计、温度均匀性和通量均匀性方面超越了该技术的基本优良预期。 该系统能够培养8片150毫米（6英寸）晶圆或4片200毫米（8英寸）晶圆，具有显著的均匀性和极低的缺陷水平。该平台已评估其940纳米VCSEL（垂直腔面发射激光器）的生长能力。
MBE 6000分子束外延系统是全球每个成功的大批量商家或内部 epi 操作的核心。它是高通量和可重复性的MBE基准。活动时间通常超过一年，这证明了反应堆的稳定性和可靠性。没有比Riber的新客户和长期客户重复下订单更有力的认可了。有许多晶圆厂配备了 2 – 8 个 MBE 6000,24 / 7 并排运行。最初，系统主要用于制造大量微波器件材料。
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