MBE 49分子束外延系统有四台反应器，专门用于沉积砷化物、磷化物、氮化物和氧化物。这些行业前沿的机器容量为200毫米、150毫米、四片4英寸晶圆或五片3英寸晶圆，具备原位监测和生长前处理能力。

Name: MBE 49分子束外延系统
Brand: RIBER
Availability: InStock

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Cassification

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MBE 49分子束外延系统技术参数和特点：

衬底尺寸：5×3英寸、4×4英寸、150毫米、200毫米

外延生长：可实现原子的表面平整度且界面陡峭的超薄层沉积，以及合金组分或掺杂原子纵向浓度梯度可调等。

真空系统：提供高真空环境，减少杂质和污染，保证晶体沉积的纯度和质量。

温度控制：生长温度低，有效避免界面原子的互扩散。

MBE 49分子束外延系统的应用非常广泛，主要包括以下几个方面：

半导体器件：如晶体管、二管、激光器等。

光电子器件：如太阳能电池、LED、光电探测器等。

量子点：使用“量子点"，这是使用MBE创建和控制的中等体积的纯半导体合金。

超导金属：超导金属可以具有超精确的尺寸（原子尺度），电子在其中不受干扰地流动。

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