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ATHOS激光光刻系统
简要描述:

ATHOS激光光刻系统是专为全息应用设计的激光光刻系统系列。凭借最高分辨率、最佳性能、灰度能力和高通量,它是全息图、OVD、菲涅尔透镜等多种设备生成的最佳解决方案。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2026-05-07
  • 访  问  量:7

详细介绍

ATHOS激光光刻系统是专为全息应用设计的激光光刻系统系列。凭借最高分辨率、最佳性能、灰度能力和高通量,它是全息图、OVD、菲涅尔透镜等多种设备生成的最佳解决方案。

ATHOS激光光刻系统特别之处:

没有侧缝

得益于 RAITH 的 InfiniTrace 技术和 12 位动态范围(4096 灰度),ATHOS Nano 消除了横向拼接错误。你可以期待超光滑的表面和无缝过渡。

高级灰度平版印刷

RapidTrace技术集成了优异的舞台机械、顶级光学和实时快速灰度曝光——使ATHOS Rapid能够比以往更快更高效地书写复杂图案。

设计用于挑战基底

借助基于混合自动对焦策略的OptiFly技术,ATHOS即使在最复杂的表面也能保持最佳对焦,适用于各种基材。

近电子束光刻级分辨率

ATHOS Nano 采用近电子束光刻(EBL)分辨率,无需满足 EBL 系统的复杂性和基础设施需求。

HoloSuite:RAITH先进的设计软件设计

HoloSuite,我们先进的全息设计软件,定义了全息主设计的新标准。它简化了制作复杂灰度全息图案的过程,只需几次点击。优秀的处理能力支持实时数据传输和即时曝光。

该设计软件拥有多样化的库,能够创建复杂且安全的全息设计。


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