Microlab 多功能直写光刻系统是专门为基础研究而设计的多功能直写光刻系统，配置405nm长寿命光源，能够在多种近紫外光刻胶制备几乎任何需要的微结构，应用例如实验型掩模版、微流控芯片、二维材料电极、微光学、MEMS等，选配355nm紫外光源，适用于SU-8等特殊光刻胶工艺，选配位相干涉、偏振调控模块，可应用于衍射光学器件等研究制备。

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更新时间：2026-05-08
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Microlab 多功能直写光刻系统可支持4~6英寸写入幅面，支持最小5mm尺寸的小基片，支持GDSII,STL,BMP等文件格式，进行2D、3D形貌微结构制备，支持多文件合并创建光刻任务，无人值守一次完成。具备扫描式、步进式、定点写入等多种光刻模式，能够为特殊器件研发提供定制化解决方案。