PicoMaster激光直写光刻系统融合了高精度、高速度与强适配性，可满足严苛的微纳加工制造需求。从科研实验室到半导体量产领域，PICOMASTER XF 可推动电子、光子学等多个领域的技术创新发展。

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更新时间：2026-05-07
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PicoMaster激光直写光刻系统是高精度的无掩模光刻工具，适用于微结构制造，分辨率高达300nm（使用405nm激光）。该系统具备实时自动对焦功能，能处理大型高度差异的基板，并支持从5x5mm起的各种基板尺寸。设备紧凑，维护成本低，配备备用光学组件以减少停机时间。适用于研发、掩膜制作、全息原稿、微接触印刷等多个领域。

PicoMaster激光直写光刻系统主要特性

・最高可达 560 平方毫米 / 分钟的高写入速度

・保证 600 纳米线宽与线间距

・无需降速即可实现 256 级灰度

・适用于微技术应用的多功能设备

・三点对准功能

・全自动写入视场校准

・可从 GDSII 文件自动识别基准标记位置

PicoMaster激光直写光刻系统融合了高精度、高速度与强适配性，可满足严苛的微纳加工制造需求。从科研实验室到半导体量产领域，PICOMASTER XF 可推动电子、光子学等多个领域的技术创新发展。

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