当前位置:首页 > 产品中心 > 半导体设备 > 物理气相沉积设备PVD > GVC-2000 全自动磁控离子溅射仪

产品分类
Cassification
详细介绍
GVC-2000 全自动磁控离子溅射仪是一款紧凑型桌面式低真空台式镀膜仪,占地空间小,操作简单、可靠性稳定性好。主要应用领域如下:
SEM/FIB 样品的制备:金铂、钯等导电膜层制备,适用所有样品,尤其适用温度敏感性样品
建议放大倍数:使用铂靶最高 15 万倍
电极、传感器、电化学分析、锂电池、拉曼等样品的制备:适用所有样品
可制备的导电膜层:金、铂、银、铜、锡、锌、铟、锑等
GVC-2000 全自动磁控离子溅射仪产品特点:
一键操作,全自动控制,具备暂停功能
镀膜颗粒小,支持最高 15 万倍的 SEM 观测
无热损伤热变形,适用所有样品
靶材更换非常简单
特殊密封结构,真空室不易损坏
支持英文、俄文等各种本地化语言操作界面
产品咨询