GVC-2000T 高真空磁控离子溅射仪是一款桌面型的小型化的 PVD 仪器，主要用于少量、小型样品的表面镀膜工艺过程。仪器具备直流磁控溅射电源，可以满足所有金属导电膜层的制备需求，尤其对于纳米及亚微米膜层的制备，具有非常明显的优势。

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更新时间：2026-10-19
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GVC-2000T 高真空磁控离子溅射仪是一款桌面型的小型化的 PVD 仪器，主要用于少量、小型样品的表面镀膜工艺过程。仪器具备直流磁控溅射电源，可以满足所有金属导电膜层的制备需求，尤其对于纳米及亚微米膜层的制备，具有非常明显的优势。GVC-2000T 高真空磁控离子溅射仪特点及配置如下：

1、功能优异

可以实现所有金属、合金的制备，可精确制备 1nm 精度的膜层

可以实现硅、碲、ITO、AZO 等单质和氧化物的制备

可以实现对各种膜层厚度的纳米精度的控制（需选配膜厚监控组件）

可以通过对样品加热的方式提高沉积膜层的致密性和结合力（需选配温控组件）

可选配多功能倾斜旋转样品台

2、操作智能

一键操作，实现工作过程无人值守

内置超过 20 种常用金属靶材工作参数，软件直接读取即可工作

工作完成具备声、光信号提醒

如需任何基础，5 分钟内即可实现对仪器的熟练使用

3、可靠性高，重复性好，安全可靠

仪器内置 Leybold 单磁悬浮分子泵，抽气效率高，工作节拍快；

样品室采用上掀盖式设计，可任意角度悬停上盖，更换样品方便也不易伤害玻璃

具备过流报警、分子泵过热报警、系统泄露报警等自动保护功能

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