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Cassification
GENxplor R&D MBE分子束外延系统是一款面向化合物半导体研发市场的集成式分子束外延设备，以紧凑单框架设计和高工艺灵活性著称，适用于多种前沿材料的原子级精确生长研究。
SI 591反应离子刻蚀（RIE）设备采用模块化设计，适用于III/V半导体和Si加工工艺，具备高均匀性和优重复性的蚀刻工艺。其主要特点包括预真空锁loadlock、电脑控制操作、数据资料记录及穿墙式安装方式等。该设备支持全自动/手动过程控制，智能过程控制及多用户权限设置，可选配多种功能以满足不同需求。
CL4514型氧化扩散设备是各大院校、科研机构、实验室中的典型热处理设备，用于微电子系集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等学科中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺的教学和试验工作。
LZD系列离子注入系统配置一套高能气体离子源和一套高能金属离子源，可实现不同气体离子和不同金属离子的单元素、多元素或混合元素注入。配置移动式加热和水冷样品平台，可对注入样品进行加热或冷却处理。适用于实验研究和小量样品试验。
Beneq TFS 200原子层沉积ALD为学术和企业研发设计，是一款高度多功能的原子层沉积（ALD）平台，在真正的 ALD 模式下提供出色的胶片质量。 系统的模块化架构允许多种升级，确保无论多么复杂，都能随着你的研究需求不断演进。
DWL 66+激光直写光刻系统是高性价比、高分辨率的图形发生器，适用于小批量掩膜版制作和直写需求。该设备具有多种选配模块，如对准系统、不同波长的激光发生器以及自动上下板加载系统等，能够满足各种精度要求。它是生命科学、先进封装、MEMS、微光学、半导体等领域至关重要的光刻研究工具。
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