CL4514型氧化扩散设备是各大院校、科研机构、实验室中的典型热处理设备，用于微电子系集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等学科中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺的教学和试验工作。

Name: CL4514型氧化扩散设备
Brand: 其他品牌
Availability: InStock

产品咨询联系我们

产品分类

Cassification

相关文章

详细介绍

CL4514型氧化扩散设备是各大院校、科研机构、实验室中的典型热处理设备，用于微电子系集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等学科中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺的教学和试验工作。

CL4514型氧化扩散设备主要技术指标：

• 炉管数：1～4管

• 配工艺管口径：Φ90～360 mm (3～12英寸)

• 恒温区长度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) ；760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)

• 单点稳定性：±1.0℃/24h (300～800℃) ；±0.5℃/24h (800～1280℃)

• 悬臂舟参数：

速度：20～1000 mm/min

行程：2000 mm

定位精度：±1 mm

载荷：17 Kg

• 气源路数：≤7路，可配恒温源瓶、氢氧合成点火器

• 气体控制：浮子/质量流量计

• 超净工作台：

净化等级：100级（万级厂房）

• 噪音：≤62dB（A）

• 振动：≤3μm

• 报警及保护：超温、断偶、缺水及真空异常系统自动报警及保护

• 控制系统：整机控制系统采用工业控制计算机(WINDOWS 系统，中文操作界面，方便简洁)

产品咨询