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Beneq P400A ALD原子层沉积系统专为不同类型的基材进行优化批次尺寸的涂层而设计——体积足够大以提供显著容量，同时又足够小以保持批次间优异的均匀性和短周期。我们的客户使用P400A用于光学涂层以及ALD在玻璃或金属板上的应用。
Beneq Transform® 300 ALD原子层沉积系统是一款高度多功能的制造平台，面向专注于 CIS、电源、微型 OLED/LED、优良封装及其他 MtM 应用的集成设备（IDM）和代工厂。它是一种高度可配置的解决方案，适用于多种优良薄膜应用，从栅极介质到钝化和/或封装等。
Beneq TFS 500 ALD原子层沉积系统是一款经过验证且适应性强的ALD反应堆，适合高级研究和可靠的批次处理。作为Beneq反应堆系列的原始型号，它在多项目环境中展现了多功能性，使其成为多种薄膜涂层应用的坚固工具。
Beneq Prodigy™ ALD原子层沉积系统是VCSEL、LED和MEMS制造商及代工厂的理想制造解决方案，旨在通过一款经济实惠的独立ALD批处理工具提升器件性能和可靠性。Beneq Prodigy 提供多种晶圆类型和尺寸的顶级钝化和/或封装薄膜。
Beneq Transform ALD原子层沉积系统是一款ALD集群工具，专为电力电子（SiC、GaN、Si）、射频、光电子、微型LED、MEMS和传感器领域的技术开发和制造而设计。Beneq Transform专为批量生产打造，能够根据吞吐量和应用需求进行扩展。它是需要表面工程应用的理想平台，如宽带间隙材料的表面钝化。
Atomfab ALD原子层沉积系统为GaN功率器件和射频器件提供快速、低损伤、低运营维护成本的等离子体原子层沉积（ALD）加工。
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