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Savannah ALD原子层沉积系统已成为全球从事ALD研究、寻求经济实惠且稳健平台的大学研究人员优先的系统。过去十年中，我们已交付数百套此类系统。Savannah®高效利用前体和节能功能，大幅降低了薄膜沉积系统的运行成本。
Phoenix ALD原子层沉积系统设计旨在实现高通量和最大运行时间，适用于从试点生产到工业级制造的任何制造环境。Phoenix®支持多达六条独立前驱体线，根据您的薄膜需求提供固体、液体或气态工艺化学。紧凑的布局和创新的设计使凤凰®成为批量生产ALD需求的实用选择。
ALD-150LE™原子层沉积系统是我们实惠但极其灵活性的原子层沉积（ALD）系统，专为入门到中级用户设计。该ALD150LE™配置为纯热ALD设计，其独特的工艺腔体设计促进了均匀的前驱体扩散和传递。优秀的供暖和温控进一步提升了系统性能。总体而言，ALD150LE™在紧凑设计中提供了优秀的灵活性和性能，同时不牺牲可用性。
ALD-150LX™原子层沉积系统是一套专为优良研发（R&D）应用设计的原子层沉积（ALD）系统。创新的ALD150LX设计特性，如我们的前体聚焦技术™，以及超高纯度（UHP）工艺能力等进步，为其提供了优秀的灵活性和性能。该ALD150LX强调在研发层面支持和支持创新、前沿技术，不仅作为独立平台，还通过集群工具配置与额外的工艺和分析模块实现连接。
Beneq TFS 200原子层沉积ALD为学术和企业研发设计，是一款高度多功能的原子层沉积（ALD）平台，在真正的 ALD 模式下提供出色的胶片质量。 系统的模块化架构允许多种升级，确保无论多么复杂，都能随着你的研究需求不断演进。
NCE-200R原子层沉积ALD系统，基于表面自限制反应原理实现原子级精度薄膜生长，广泛应用于半导体、MEMS、光伏、储能等前沿领域。该系统核心优势在于超高沉积效率，单循环时间最短至2秒，效率达国际同类产品的4-10倍，同时薄膜厚度控制精度可达0.1nm级别，兼具优秀的3D保形性，能精准填充复杂孔洞及缺陷。
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