Cygnus Optima Prime 介质薄膜化学沉积系统是一款针对以硅烷为反应物制备氧化硅/氮化硅/氮氧化硅/碳氧化硅薄膜的化学气相沉积设备，适用于集成电路、功率半导体等领域，可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处理。

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更新时间：2026-10-16
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Cygnus Optima Prime 介质薄膜化学沉积系统是一款针对以硅烷为反应物制备氧化硅/氮化硅/氮氧化硅/碳氧化硅薄膜的化学气相沉积设备，适用于集成电路、功率半导体等领域，可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处理。该系统采用标准化的传输系统和模块化的工艺腔室设计，配置灵活、工艺窗口宽、功能集成度高，各项工艺技术指标均达到突出水平。

Cygnus Optima Prime 介质薄膜化学沉积系统设备特点

• 多步沉积，保证了薄膜优异的均匀性以及高产能

• 高低频射频系统，Vi-Sensor 系统确保射频功率均匀分配在每个点位

• 腔室采用模块化设计，支持PEOX/SiN/SiON/SiOC 工艺切换

• 可根据客户需求配置腔室数量和位置

• 晶圆尺寸：12英寸

• 沉积材料：氧化硅（硅烷）、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅

• 适用工艺：层间介质层、金属间介质层、硬掩模、钝化层

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Cygnus Optima Prime 介质薄膜化学沉积系统是一款针对以硅烷为反应物制备氧化硅/氮化硅/氮氧化硅/碳氧化硅薄膜的化学气相沉积设备，适用于集成电路、功率半导体等领域，可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处理。

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